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行业动态

简介讲述氧化亚硅真空升华炉
浏览人数:783 次更新时间:2023-12-15


      氧化亚硅真空升华炉是用于制备高纯氧化亚硅材料,升华炉主要提高氧化亚硅的纯度,改变电池负极容量值。

      氧化亚硅真空升华炉应用于半导体硅片的制备,也可应用于氧化亚硅、碳化硅等带半导体材料的研究与开发,还可用于微电子器件、光电子器件、光子晶体、生物医学工程、纳米技术等领域。

      该设备的特点是具有高真空度和加热控制系统的精确性,能够实现晶体的高效分离和高质量产品的生产。在氧化亚硅真空升华炉中,可以通过控制加热温度和时间、升华室的真空度等因素,实现不同类型和规格的晶体生产。

      该设备有收集系统、升华系统、加热系统、温控系统、真空系统、冷却系统六大组成。

      升华系统:由加热区和收集区组成,加热区由感应线圈、重质刚玉、石墨硬毡、等静压石墨组成;收集区由310S不锈钢及保温层组成
      加热系统:采用感应加热,电源采用IGBT节能型电源,噪音小,比传统晶闸管电源节能15%左右

      温控系统:采用 PLC 触屏集中控制方式,自动化控制,带网口,可实现远程控制
      真空系统:由多级真空泵、真空阀,压力控制器及管路组成

      冷却系统:配置闭式冷却系统,内循环用去离子水,不会造成设备管路结垢,内循环水损失小,外循环用自来水,自动补水,风机自启动散热;散热效果好,集成环保,占地面积小等特点。


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